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納米硅鑲嵌復合薄膜退火前后的微結構及發(fā)光特性研究
采用減壓化學氣相沉積方法,依靠純N2稀釋的SiH4氣體的熱分解反應,在玻璃表面生長了納米硅鑲嵌的復合薄膜.實驗研究了退火前后薄膜樣品的結晶狀態(tài)和光致發(fā)光特性.結果表明,未退火樣品的光致發(fā)光特性隨沉積溫度升高反而減弱.退火溫度Ta＞600℃時,晶化趨勢明顯,Ta＜600℃時,退火溫度對晶化的貢獻不大,但提高退火溫度或延長退火時間可以增加PL強度.同時在退火樣品中發(fā)現Si-Ox的單晶結構.通過Raman、PL、TEM的分析比較,認為在退火前后分別有兩種不同的發(fā)光機制起主導作用.
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