脈沖激光退火納米碳化硅薄膜的拉曼散射研究

采用XeCl準分子激光實現了碳化硅薄膜的脈沖激光晶化,對退火前后薄膜樣品拉曼散射譜特征進行了分析,探討了激光能量密度對納米碳化硅薄膜結構和物相特性的影響.結果顯示晶態納米碳化硅薄膜的拉曼散射峰相對體材料的特征峰顯著寬化和紅移,并顯示了伴隨退火過程存在著硅和碳的物相分凝現象.隨著激光能量密度的增大,薄膜的晶化度提高,晶化顆粒增大,而伴隨的分凝程度逐漸減小.

作 者： 于威 何杰 孫運濤 朱海豐 韓理 傅廣生   作者單位： 河北大學物理科學與技術學院,河北,保定,071002  刊 名： 中國激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分類號： O657.37  關鍵詞： 薄膜物理學   拉曼散射   晶化   激光退火   碳化硅  

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