右旋鄰氯扁桃酸分子印跡聚合物的制備及結合特性研究

以右旋鄰氯扁桃酸為模板分子合成了具有高選擇性的分子印跡聚合物作為手性分離材料.紫外光譜研究說明在聚合開始之前模板分子與功能單體形成了配合物,并用Hyperchem軟件模擬其分子結構,結合能分別為-1.6437×104 J*mol-1和-4.2799×104 J*mol-1.分子印跡聚合物對模板分子的結合量高于其它類似物,手性分離因子α達1.76.Scatchard分析表明分子印跡聚合物在識別右旋鄰氯扁桃酸分子過程中存在兩類結合位點,與配合物模擬結構數目一致.

作 者： 李萍 戎非 朱馨樂 胡濬喆 袁春偉   作者單位： 李萍(北京航空航天大學生物工程系,郵編,100083)

戎非,朱馨樂,胡濬喆,袁春偉(東南大學生物醫學工程系,吳健雄實驗室,南京,210096) 

刊 名： 高分子學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA POLYMERICA SINICA  年，卷(期)： 2003 ""(5)  分類號： O63  關鍵詞： 右旋鄰氯扁桃酸   分子印跡聚合物   配合物模擬   Scatchard分析  

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