以多孔氧化鋁為模板鈷納米線陣列的制備

以多孔氧化鋁為模板,采用交流電沉積的方法制備了鈷納米線陣列膜.采用掃描電子顯微鏡(SEM)對電沉積鈷納米線前后的多孔氧化鋁模板的形貌進行表征,通過透射電子顯微鏡(TElM)觀察鈷納米線的表面形貌.結果表明:金屬鈷沉積到多孑L氧化鋁模板的納米孑L中,鈷納米線的平均直徑約為50n/n,與氧化鋁模板的孔徑相一致.

作 者： 梁淑敏 LIANG Shu-min   作者單位： 黑龍江省公安警官職業學院,公安科技系,黑龍江,哈爾濱,150025  刊 名： 化學工程師  ISTIC 英文刊名： CHEMICAL ENGINEER  年，卷(期)： 2008 22(9)  分類號： O646  關鍵詞： 鈷納米線陣列   多孔氧化鋁模板   交流電沉積   納米材料  

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