參數對微焦點源相位相襯像質影響的研究

微焦點同軸X射線相位相襯成像能得到清晰度和分辨率高的圖像.本文從理論上用計算機模擬的方法分析各參數對成像質量的影響,以指導實驗時避免不必要的時間和材料浪費,獲得理想的圖像.

作 者： 王燕 陳家璧 張學龍 Wang Yan Chen Jiabi Zhang Xuelong   作者單位： 王燕,Wang Yan(上海理工大學光電學院,上海,200093;江西師范大學理電學院,江西南昌,330022)

陳家璧,Chen Jiabi(上海理工大學光電學院,上海,200093)

張學龍,Zhang Xuelong(上海理工大學醫療器械學院,上海,200093) 

刊 名： 應用激光  ISTIC PKU 英文刊名： APPLIED LASER  年，卷(期)： 2008 28(3)  分類號： O434 O43 O435.1  關鍵詞： X射線   相位相襯   微焦點源  

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