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表面溫敏聚合物刷的原子力顯微鏡和石英晶體微天平研究
通過表面引發的原子轉移自由基聚合在硅片表面制備了聚(N-異丙基丙烯酰胺)(PNIPAAm)聚合物刷.用原子力顯微鏡(AFM)分別研究了PNIPAAm的接枝動力學、溫度和溶劑性質對厚度的影響以及PNIPAAm鏈與原子力針尖間的粘附力.結果表明,PNIPAAm鏈在硅片表面的生長具有很好的可控性.常溫下厚度為33 nm的PNIPAAm膜在水溶液中的增加到82.4 nm;而在甲醇/水(V:V=1:1)溶液中,PNIPAAm分子鏈處于坍塌收縮狀態,厚度降低為45 nm;在55℃下干燥所得厚度則僅為22nm.力-距離測量結果表明,在溶液中,PNIPAAm鏈與原子力針尖之間的粘附力遠小于在干態下的粘附力.用石英晶體微天平(QCM-D)對PNIPAAm的可逆相轉變進行了.研究,結果表明PNIPAAm分子鏈隨溫度變化的構象轉變是發生在30～34℃之間的連續過程.
高長有,Gao,Changyou(浙江大學高分子科學與工程學系教育部高分子合成與功能構造重點實驗室,杭州,310027;浙江大學傳染病診治國家重點實驗室,杭州,310003)
刊 名： 化學學報 ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA CHIMICA SINICA 年，卷(期)： 2009 67(24) 分類號： O6 關鍵詞： 原子轉移自由基聚合(ATRP) 聚N-異丙基丙烯酰胺) 原子力顯微鏡 石英晶體微天平 atom transfer radical polymerization poly(N-isopropylacrylamide) atom force microscopy quartz crystal microbalance【表面溫敏聚合物刷的原子力顯微鏡和石英晶體微天平研究】相關文章：
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