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圓柱形介質(zhì)阻擋放電等離子體光譜診斷
在350～1150 nm范圍內(nèi)對開放空間Ar氣介質(zhì)阻擋放電等離子體的發(fā)射光譜進行測量,表明Ar發(fā)射譜線主要集中在680 nm～950 nm,且都為Ar原子譜線.采用發(fā)射光譜相對強度對比法,選取相距較近且有相同下能級的727.29 nm(2P2-1S4),738.40 nm(2P3-1S4) 和751.47 nm(2P5-1S4)三條光譜測量電子溫度.通過對在Ar氣和空氣中放電譜線的對比和分析,得出發(fā)射光譜相對強度與電源功率的關系.最終得出若要便于工業(yè)應用和光譜測量,需要選擇特定的氣體流量和電源功率.
作 者： 馬柳 時家明 袁忠才 張瑋 MA Liu SHI Jia-ming YUAN Zhong-cai ZHANG Wei 作者單位： 電子工程學院安徽省紅外與低溫等離子體重點實驗室,合肥,230037 刊 名： 光散射學報 ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LIGHT SCATTERING 年，卷(期)： 2008 20(3) 分類號： O461 關鍵詞： 介質(zhì)阻擋放電 等離子體 光譜診斷 發(fā)射譜線【圓柱形介質(zhì)阻擋放電等離子體光譜診斷】相關文章：
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